首CHUANG的解決方案將SwissLitho NanoFrazo系統(tǒng)的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術的高產(chǎn)量和成本效益相結(jié)合

面向 MEMS、納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的領仙供應商 EVG與新型納米光刻技術制造商 SwissLitho AG 宣布推出聯(lián)合解決方案，可生產(chǎn)最小到單納米級的 3D 結(jié)構。這一方案在歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）"項目中進行了shouci演示，涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)和EVG的HERCULES® NIL 系統(tǒng)，前者可制作具有納米壓印光刻（NIL）的3D結(jié)構的壓印母板，后者采用 SmartNIL® 技術來高效地量產(chǎn)這些結(jié)構。

目標應用

EVG和SwissLitho最初的目標是開發(fā)衍射光學元件和其他相關光學組件，以支持光子學、數(shù)據(jù)通信、增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）和其他應用，并有可能擴展到生物技術、納米流體和其他納米技術應用。

作為聯(lián)合解決方案的一部分，SwissLitho的NanoFrazo系統(tǒng)將用于創(chuàng)建壓印母版。與傳統(tǒng)方法（包括電子束和灰度光刻）相比，運用這一新技術打印3D結(jié)構可實現(xiàn)wuyulunbi的精度。創(chuàng)建生產(chǎn)過程中的工作模板則由EVG的HERCULES NIL系統(tǒng)來完成，它采用EVG duyou的大面積納米壓印SmartNIL技術，jiju成本效益。

EVG企業(yè)技術總監(jiān)Thomas Glinsner博士指出：“SwissLitho的NanoFrazor方案與EVG的SmartNIL技術高度互補。我們可以攜手為光子學和其他涉及3D 結(jié)構圖案的應用提供完整的NIL解決方案，為兩家公司擴大客戶群和市場范圍提供重要機會。NILPhotonics®技術中心將成為對此感興趣的客戶的第一選擇，我們將會提供可行性研究、方案演示和中試服務。“

技術細考

NanoFrazor背后的熱掃描探針光刻技術，由蘇黎世的IBM研究院發(fā)明，后來被SwissLitho AG收購。這種無掩模、直接寫入光刻方法是在圖案化之前將dute的熱敏光刻膠旋涂到樣品表面。然后使用加熱的超尖探針局部分解和蒸發(fā)光刻膠，同時檢查寫入的納米結(jié)構；接下來使用剝離、蝕刻、電鍍、模塑或其他方法將產(chǎn)生的任意光刻膠圖案轉(zhuǎn)移到任何其他材料中。

“我們開發(fā)了NanoFrazor系列，為昂貴的電子束光刻系統(tǒng)提供高性能、經(jīng)濟實惠的替代方案，"SwissLitho的shouxi執(zhí)行官Felix Holzner博士說。“該項技術允許在一個步驟中制造具有許多'層級'的母版。尤其是與傳統(tǒng)的電子束或灰度光刻方法相比，具有單納米精度的3D結(jié)構能夠更容易地制造出來，且保真度更高。我們期待著在奧地利的NILPhotonic技術中心與客戶一道工作，將我們的技術與EVG的SmartNIL工藝進行成功的結(jié)合。

HERCULES NIL將EVG在NIL，光刻膠加工和大批量制造解決方案領域積累的專業(yè)知識整合到一個集成系統(tǒng)中，為200毫米晶圓提供高達40片每小時的產(chǎn)量。該系統(tǒng)的可配置模塊化平臺可適應各種壓印模塊和結(jié)構尺寸，使客戶在滿足其制造需求方面具有更大的靈活性。此外，它能夠制作多用途軟印章，有助于延長壓印母板的使用壽命。

關于 SwissLitho

SwissLitho是一家屢獲殊榮的初創(chuàng)公司，成立于2012年，其愿景是chedi改變納米制造。該公司開發(fā)、制造和銷售一種新型無掩模納米光刻技術，具有高分辨率和dute的功能，如 3D 圖案化和原位計量，有可能取代和擴展電子束光刻等傳統(tǒng)圖案化技術?？蛻羰褂肧wissLitho dute的NanoFrazor工具來制造新型的電氣，光學，磁性和生物納米器件，這些器件以前是無法制造的。

關于EVG

EV Group (EVG) 是為半導體、微機電系統(tǒng) (MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米器件制造提供大批量生產(chǎn)設備和工藝解決方案的領仙供應商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓加工和光刻/光刻納米壓印 (NIL) 設備，光刻膠涂布機，以及清潔和檢測/計量系統(tǒng)。EVG 成立于 1980 年，為全球各地的客戶和合作伙伴提供服務和支持。